Szilíciium nyomszennyező meghatározása szilárd fázisban végzett dúsítás után
Jogi megjegyzés: A kéziratos disszertációk csak a szerzői jogok maradéktalan tiszteletben tartásával használhatók, másolat kizárólag a szerző vagy jogutódja írásos engedélyével készíttethető.
Mentés helye:
Szerző: | |
---|---|
Formátum: | disszertáció |
Nyelv: | magyar |
Megjelenés: |
1973
|
Tárgyszavak: | |
Címkék: |
Új címke
A tételhez itt fűzhet saját címkét!
|
Hasonló tételek
-
Implantált szilícium rétegek infravörös spektroszkópiai vizsgálata
Szerző: Révész Péter
Megjelenés: (1974) -
Policiklusos metilpolisziloxánok gázkromatográfiás vizsgálata : szerkezet-hozzárendelés gázkromatográfiás adatok segítségével
Szerző: Alexander Gábor
Megjelenés: (1972) -
Polikristályos Si rétegek előállítása és vizsgálata
Szerző: Timár József
Megjelenés: (1973) -
Az oxigén mint szennyező hatása implantált szilíciumban
Szerző: Antos László (fizikus)
Megjelenés: (1992) -
Mikrooszlopos dúsítás kelátképző cellulózon atomspektrometriás elemzéshez
Szerző: Zihné Perényi Katalin
Megjelenés: (2000)