Ion-implantáció hatásainak vizsgálata Si-on és GaP-on ellipszometriával és ion-visszaszórásos spektometriával

Legal Note: A kéziratos disszertációk csak a szerzői jogok maradéktalan tiszteletben tartásával használhatók, másolat kizárólag a szerző vagy jogutódja írásos engedélyével készíttethető.

Saved in:
Bibliographic Details
Main Author:
Other Authors:
Format: dissertation
Language:Hungarian
Published: 1986
Subjects:
Tags: Add Tag
Be the first to tag this record!

University Library and Archive

Holdings details from University Library and Archive
Call Number: Copy: Collection: Status:
Kd6532 RD10466 Kézirattár Non-circulating  Place a Hold