Polikristályos Si rétegek előállítása és vizsgálata
Jogi megjegyzés: A kéziratos disszertációk csak a szerzői jogok maradéktalan tiszteletben tartásával használhatók, másolat kizárólag a szerző vagy jogutódja írásos engedélyével készíttethető.
Mentés helye:
Szerző: | |
---|---|
Formátum: | disszertáció |
Nyelv: | magyar |
Megjelenés: |
1973
|
Tárgyszavak: | |
Címkék: |
Új címke
A tételhez itt fűzhet saját címkét!
|
LEADER | ntm a22 c 4500 | ||
---|---|---|---|
001 | 000770713 | ||
005 | 20120330150307.0 | ||
008 | 111201s1973 hu a frm 000 0 hun d | ||
040 | |a ELTE |b hun | ||
041 | 0 | |a hun | |
100 | 1 | |a Timár József | |
245 | 1 | 0 | |a Polikristályos Si rétegek előállítása és vizsgálata |c [készítette] Timár József |
260 | |c 1973 | ||
300 | |a 56 fol. |c 30 cm | ||
502 | |a Egyetemi doktori értekezés, Eötvös Loránd Tudományegyetem (Budapest), 1973. | ||
540 | |a A kéziratos disszertációk csak a szerzői jogok maradéktalan tiszteletben tartásával használhatók, másolat kizárólag a szerző vagy jogutódja írásos engedélyével készíttethető. | ||
598 | |a doktori disszertáció | ||
650 | 0 | 4 | |a polikristályos szilícium réteg |x elektrotechnika |x doktori disszertáció |
653 | |a doktori disszertáció | ||
850 | |a B2 | ||
925 | |a Feltöltve |